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탄탈륨 카바이드 코팅 지원
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탄탈륨 카바이드 코팅 지원

중국의 전문 탄탈륨 카바이드 코팅 지원 제품 제조업체 및 공장인 VeTek Semiconductor 탄탈륨 카바이드 코팅 지원은 일반적으로 반도체 장비의 구조 부품 또는 지지 부품의 표면 코팅, 특히 다음과 같은 반도체 제조 공정의 핵심 장비 부품 표면 보호에 사용됩니다. CVD 및 PVD. 추가 상담을 환영합니다.

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제품 설명

VeTek Semiconductor의 주요 기능탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅지원은 개선하는 것입니다.내열성, 내마모성 및 내식성공정의 정확성과 신뢰성을 향상시키고 부품의 서비스 수명을 연장하기 위해 탄탈륨 카바이드 코팅 층을 코팅하여 기판을 코팅합니다. 반도체 가공분야에 사용되는 고성능 코팅제품입니다.


VeTek Semiconductor의 탄탈륨 카바이드 코팅 지지대는 모스 경도가 거의 9~10에 달하며 다이아몬드 다음으로 두 번째입니다. 내마모성이 매우 강하고 가공 중 표면 마모 및 충격에 효과적으로 저항하여 장비 부품의 수명을 효과적으로 연장할 수 있습니다. 약 3880°C의 높은 융점과 결합하여 지지 구조물의 표면 코팅, 열처리 장비, 반도체 장비의 챔버 또는 개스킷과 같은 반도체 장비의 핵심 구성 요소를 코팅하여 내마모성과 고온을 향상시키는 데 자주 사용됩니다. 저항.


탄탈륨 탄화물의 융점은 약 3880°C로 매우 높기 때문에 다음과 같은 반도체 공정 공정에서 사용됩니다.화학기상증착(CVD)그리고물리기상증착(PVD)강력한 내열성과 화학적 내식성을 갖춘 TaC 코팅은 극한 환경에서 장비 부품을 효과적으로 보호하고 기판의 부식이나 손상을 방지하여 웨이퍼 제조 시 고온 환경을 효과적으로 보호할 수 있습니다. 이 기능은 또한 VeTek Semiconductor의 탄탈륨 카바이드 코팅 지원이 에칭 및 부식 공정에 자주 사용된다는 것을 결정합니다.


탄탈륨 카바이드 코팅 지지대는 입자 오염을 줄이는 기능도 있습니다. 웨이퍼 처리 중 표면 마모는 일반적으로 미립자 오염을 발생시켜 웨이퍼 제품 품질에 영향을 미칩니다. 9-10 Mohs 경도에 가까운 TaC Coating의 극한 제품 특성은 이러한 마모를 효과적으로 줄여 파티클 생성을 줄일 수 있습니다. TaC Coating의 우수한 열전도율(약 21W/m·K)과 결합하여 고온 조건에서도 좋은 열전도율을 유지할 수 있어 웨이퍼 제조의 수율과 일관성을 크게 향상시킬 수 있습니다.


VeTek Semiconductor의 주요 TaC 코팅 제품은 다음과 같습니다.TaC 코팅히터, CVD TaC 코팅 도가니, TaC 코팅 회전 서셉터그리고TaC 코팅 예비 부품등 맞춤형 제품 서비스를 지원합니다. VeTek Semiconductor는 반도체 산업을 위한 우수한 제품과 기술 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 우리는 진심으로 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 바랍니다.


미세한 단면에 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅:


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


CVD TaC 코팅의 기본물성


TaC 코팅의 물리적 특성
밀도
14.3(g/cm3)
특정 방사율
0.3
열팽창계수
6.3*10-6/케이
경도(홍콩)
2000홍콩
저항
1×10-5옴*cm
열 안정성
<2500℃
흑연 크기 변화
-10~-20um
코팅 두께
≥20um 일반 값(35um±10um)

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