중국 실리콘 질화물 제조업체, 공급업체, 공장

VeTek Semiconductor는 질화규소 제조에 중점을 두고 있으며 수석 전문가와 최고의 기술 인재로 구성된 연구 개발 팀을 보유하고 있습니다. 질화 규소 세라믹은 일반 세라믹 재료의 경도, 내열성, 내마모성 및 내식성의 장점을 가지며 우수한 내열 충격성, 고온 크리프 저항성, 우수한 자기 윤활성 및 우수한 화학적 안정성 등의 장점을 가지며 널리 사용됩니다. 신에너지, 화학산업, 항공우주, 반도체 분야에 사용됩니다.

VeTek Semiconductor의 Silicon Nitride 소재는 다음과 같은 뛰어난 장점을 가지고 있습니다.

1. 우수한 화학적 안정성

질화 규소 세라믹은 화학적 안정성이 뛰어나며 다양한 강산, 알칼리 및 부식성 가스를 견딜 수 있습니다. 부식성 화학물질을 처리해야 하는 반도체 제조 공정에서 질화규소 세라믹은 장기적으로 안정적인 성능을 보장할 수 있습니다.

2. 우수한 기계적 성질

질화 규소 세라믹은 경도가 높고 압축 강도와 내마모성이 뛰어나 기계적 응력과 표면 마모를 견딜 수 있으며 변형이나 파열이 쉽지 않습니다. 이러한 기계적 특성으로 인해 반도체 장비의 구조 부품 및 공정 부품 소재로 매우 적합합니다.

3. 고온 안정성

질화규소 세라믹은 고온 환경에서 안정성을 유지할 수 있고 쉽게 연화되거나 녹지 않으며 반도체 제조 공정에서 고온 가공 및 취급을 견딜 수 있습니다. 이를 통해 그리퍼, 반응 챔버 구성 요소 등과 같은 고온 공정 장비 핵심 구성 요소의 제조에 사용할 수 있습니다.

4. 우수한 절연성

절연 특성은 반도체 장치 제조에 매우 중요합니다. 질화 규소 세라믹은 우수한 절연 특성을 갖고 있어 회로 부품을 전류 누출이나 전자기 간섭으로부터 효과적으로 분리하고 보호하여 장치의 안정성과 신뢰성을 향상시키는 데 도움이 됩니다.

5. 열전도율 및 열전도율

질화규소 세라믹은 열전도율이 높고 장치에서 발생하는 열을 효과적으로 전도하고 분산시켜 작동 과정에서 장치의 온도 안정성을 유지하는 데 도움이 됩니다. 이는 반도체 장치의 고성능 작동에 매우 중요합니다.

태양광 및 반도체 산업에서 VeTek Semiconductor의 질화규소 소재는 주로 다음과 같은 용도로 사용됩니다.

1. 정전 척 및 에칭 챔버 부품

질화규소 세라믹은 우수한 화학적 안정성과 높은 온도 저항으로 인해 반도체 제조 시 정전 척 및 에칭 챔버 부품의 재료로 자주 사용됩니다. 정전 척은 웨이퍼나 기판을 고정하고 안정화하는 데 사용되며, 에칭 챔버 구성 요소는 부식성 가스와 고온 환경을 견디는 데 사용됩니다.

2. 가스 분배판 및 반사판

질화규소 세라믹은 반도체 장비 제조 시 가스 분배판과 반사판에도 사용됩니다. 가스 분배판은 반응성 또는 보호성 가스를 반응 챔버에 균일하게 분배하는 데 사용되며, 반사판은 반응 챔버 내 빛의 분포 및 반사를 최적화하여 반응 효율성과 균일성을 향상시키는 데 사용됩니다.

3. 홀더 및 열 부품

질화 규소 세라믹은 반도체 제조 장비의 홀더 및 열 관리 부품으로 자주 사용됩니다. 이러한 구성 요소는 안정적인 장비 작동 및 장치 처리 정확도를 보장하기 위해 우수한 기계적 강도, 내마모성 및 열 전도성을 가져야 합니다.

4. 화학기계연마(CMP) 패드

Silicon Nitride 세라믹은 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정에서 패드 재료로 널리 사용됩니다. 평탄도와 내마모성이 우수하며, 연마 공정 중에 안정적인 지지력을 제공하여 반도체 웨이퍼 표면의 평탄도와 정밀도를 보장할 수 있습니다.