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EPI용 SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터
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EPI용 SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터

VeTek Semiconductor는 EPI용 SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터의 전문 제조업체, 공급업체 및 수출업체입니다. VeTek Semiconductor는 전문적인 팀과 선도적인 기술을 바탕으로 합리적인 가격으로 높은 품질을 제공할 수 있습니다. 우리는 추가 논의를 위해 우리 공장을 방문하는 것을 환영합니다.

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제품 설명

VeTek Semiconductor는 다년간의 경험을 바탕으로 EPI용 SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터를 주로 생산하는 중국 제조업체 및 공급업체입니다. 당신과 비즈니스 관계를 구축하길 바랍니다. EPI(에피택시)는 첨단 반도체 제조에 있어 중요한 공정입니다. 여기에는 복잡한 장치 구조를 만들기 위해 기판에 얇은 재료 층을 증착하는 작업이 포함됩니다. EPI용 SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터는 우수한 열 전도성과 고온 저항성으로 인해 EPI 반응기의 서셉터로 일반적으로 사용됩니다. CVD-SiC 코팅을 사용하면 오염, 침식 및 열충격에 대한 저항성이 더욱 높아집니다. 이로 인해 서셉터의 수명이 길어지고 필름 품질이 향상됩니다.


SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터의 장점:

오염 감소: SiC의 불활성 특성은 불순물이 서셉터 표면에 달라붙는 것을 방지하여 증착된 필름의 오염 위험을 줄입니다.

내식성 향상: SiC는 기존 흑연보다 내식성이 훨씬 뛰어나 서셉터의 수명이 길어집니다.

향상된 열 안정성: SiC는 열 전도성이 뛰어나며 심각한 왜곡 없이 고온을 견딜 수 있습니다.

향상된 필름 품질: 향상된 열 안정성과 감소된 오염으로 인해 균일성과 두께 제어가 향상된 고품질 증착 필름이 생성됩니다.


신청:

SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터는 다음을 포함한 다양한 EPI 응용 분야에 널리 사용됩니다.

GaN 기반 LED

전력전자

광전자공학 장치

고주파 트랜지스터

센서


SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터의 제품 매개변수

등방성 흑연의 물리적 특성
재산 단위 일반적인 값
부피 밀도 g/cm3 1.83
경도 HSD 58
전기 저항력 mΩ.m 10
굴곡강도 MPa 47
압축강도 MPa 103
인장강도 MPa 31
영률 평점 11.8
열팽창(CTE) 10-6K-1 4.6
열 전도성 W·m-1·K-1 130
평균 입자 크기 μm 8-10
다공성 % 10
재 함량 ppm ≤10 (정제 후)

참고: 코팅하기 전에 첫 번째 정화를 수행하고 코팅 후 두 번째 정화를 수행합니다.


CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성
재산 일반적인 값
결정 구조 FCC β상 다결정, 주로 (111) 방향
밀도 3.21g/cm³
경도 비커스 경도 2500(500g 하중)
입자 크기 2~10μm
화학적 순도 99.99995%
열용량 640 J·kg-1·K-1
승화 온도 2700℃
굴곡강도 415MPa RT 4점
영률 430 Gpa 4pt 벤드, 1300℃
열 전도성 300W·m-1·K-1
열팽창(CTE) 4.5×10-6K-1


VeTek 반도체 생산공장


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