수평형 SiC 웨이퍼 캐리어

VeTek 반도체의수평형 SiC 웨이퍼 캐리어/Boat는 융점이 매우 높아(약 2700°C)수평형 SiC 웨이퍼 캐리어/고온 환경에서도 변형이나 열화 없이 안정적으로 작동하는 보트. 이 특징은 반도체 제조 공정, 특히 고온 어닐링이나 화학 기상 증착(CVD)과 같은 공정에서 특히 중요합니다.

그만큼수평형 SiC 웨이퍼 캐리어/Boat는 웨이퍼 캐리어를 운반하는 과정에서 구체적으로 다음과 같은 역할을 수행합니다.

실리콘 웨이퍼 운반 및 지지: 수평형 SiC 웨이퍼 보트는 주로 반도체 제조 과정에서 실리콘 웨이퍼를 운반하고 지지하는 데 사용됩니다. 여러 개의 실리콘 웨이퍼를 단단히 배열하여 전체 처리 과정에서 좋은 위치와 안정성을 유지할 수 있습니다.

균일한 가열 및 냉각: SiC의 높은 열전도율로 인해 Wafer Boat는 모든 실리콘 웨이퍼에 효과적으로 열을 고르게 분배할 수 있습니다. 이는 고온 처리 중에 실리콘 웨이퍼의 균일한 가열 또는 냉각을 달성하여 처리 프로세스의 일관성과 신뢰성을 보장하는 데 도움이 됩니다.

오염 방지: SiC의 화학적 안정성으로 인해 고온 및 부식성 가스 환경에서 우수한 성능을 발휘하여 실리콘 웨이퍼가 오염 물질이나 반응물에 노출되는 것을 줄여 실리콘 웨이퍼의 순도와 품질을 보장합니다.

실제로 수평형 SiC 웨이퍼 보트는 고유한 제품 특성으로 인해 위의 역할을 수행할 수 있습니다.

우수한 화학적 안정성: SiC 소재는 다양한 화학 매체에 대한 내식성이 우수합니다. 부식성 가스나 액체를 처리하는 과정에서 SiC 웨이퍼 보트는 화학적 부식에 효과적으로 저항하고 실리콘 웨이퍼를 오염이나 손상으로부터 보호할 수 있습니다.

높은 열전도율: SiC의 높은 열전도율은 캐리어 공정에서 열을 고르게 분산시켜 열축적을 줄여줍니다. 이는 정밀 가공 중 온도 제어의 정확성을 향상시키고 실리콘 웨이퍼의 균일한 가열 또는 냉각을 보장할 수 있습니다.

낮은 열팽창 계수: SiC 소재의 낮은 열팽창 계수는 온도 변화에 따른 SiC 웨이퍼 보트의 치수 변화가 매우 작다는 것을 의미합니다. 이는 고온 가공 중에 치수 안정성을 유지하는 데 도움이 되며 열팽창으로 인한 실리콘 웨이퍼의 변형이나 위치 변위를 방지합니다.

수평형 SiC 웨이퍼 캐리어의 기본 물리적 특성:

VeTek 반도체 생산 공장:

반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요: