실리콘 카바이드 웨이퍼 보트

VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 열 안정성, 기계적 강도 및 내화학성이 뛰어난 매우 순수한 탄화규소 소재로 만들어졌습니다. 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 반도체 제조, 특히 고온 환경의 핫존 응용 분야에 사용되며 웨이퍼 보호, 재료 운송 및 안정적인 공정 유지에 중요한 역할을 합니다. VeTek Semiconductor는 반도체 제조의 진화하는 요구 사항을 충족하기 위해 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 보트의 성능을 혁신하고 개선하기 위해 계속 열심히 노력할 것입니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

VeTek Semiconductor는 전문 제조업체로서 고품질의 실리콘 카바이드 웨이퍼 보트를 제공하고자 합니다.

뛰어난 열 성능: VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 열 성능이 뛰어나고 고온 환경에서 안정적이며 열 전도성이 뛰어나 주변 온도보다 훨씬 높은 온도에서도 작동할 수 있습니다. 이로 인해 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 보트는 고전력 및 고온 내구성 애플리케이션에 이상적입니다.

우수한 내식성: 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 반도체 제조의 핵심 도구로, 다양한 부식제에 강한 저항성을 갖고 있습니다. 신뢰할 수 있는 캐리어로서 화학적 환경에서 고온 및 부식의 영향을 견딜 수 있어 탄화규소 웨이퍼의 안전하고 효과적인 처리를 보장합니다. 신뢰할 수 있는 캐리어로서 화학적 환경에서 고온 및 부식의 영향을 견딜 수 있어 탄화규소 웨이퍼의 안전하고 효과적인 처리를 보장합니다.

치수 무결성: 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 소결 공정 중에 수축되지 않아 치수 무결성을 유지하고 부품이 뒤틀리거나 균열을 일으킬 수 있는 잔류 응력을 제거합니다. 이를 통해 정확한 치수의 복잡한 모양의 부품을 제조할 수 있습니다. 반도체 장치 제조 또는 기타 산업 분야에서 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 보트는 부품이 사양을 충족하도록 신뢰할 수 있는 치수 제어를 제공합니다.

다목적 도구인 VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 에피택시 성장 및 화학 기상 증착을 포함한 다양한 반도체 제조 기술에 적용될 수 있습니다. 내구성이 뛰어난 디자인과 비반응성 특성으로 인해 고순도 탄화규소 웨이퍼 보트는 다양한 처리 화학 물질에 적합하며 다양한 처리 환경에 원활하게 적응할 수 있습니다.

반도체 제조에서 에피택셜 성장과 화학 기상 증착은 고품질 웨이퍼와 박막을 성장시키는 데 사용되는 일반적인 공정 단계입니다. 고순도 SiC 보트는 고온과 화학물질의 영향을 견뎌 정확한 성장과 증착 공정을 보장하는 캐리어로서 중요한 역할을 합니다.

내구성이 뛰어난 디자인 외에도 고순도 SiC 보트는 반응성이 없습니다. 이는 가공 화학물질과 부정적인 반응을 일으키지 않아 보트의 무결성과 성능을 유지한다는 것을 의미합니다. 이를 통해 반도체 제조업체에는 생산 공정의 일관성과 반복성을 보장할 수 있는 신뢰할 수 있는 도구가 제공됩니다.

재결정화된 탄화규소의 물리적 특성

재결정화된 탄화규소의 물리적 특성
재산	일반적인 값
작동 온도(°C)	1600°C(산소 포함), 1700°C(환원 환경)
SiC 함량	> 99.96%
무료 Si 콘텐츠	< 0.1%
부피 밀도	2.60-2.70g/cm3
겉보기 다공성	< 16%
압축 강도	> 600MPa
냉간 굽힘 강도	80-90MPa(20°C)
뜨거운 굽힘 강도	90-100MPa(1400°C)
열팽창 @1500°C	4.70 10-6/°C
열전도도 @1200°C	23 W/m•K
탄성률	240GPa
열충격 저항	매우 좋은