고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 캐리어

VeTek Semiconductor 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 캐리어는 반도체 공정의 중요한 구성 요소로, 섬세한 실리콘 웨이퍼를 안전하게 고정하고 운반하도록 설계되어 제조의 모든 단계에서 핵심적인 역할을 합니다. VeTek Semiconductor의 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 캐리어는 탁월한 성능과 신뢰성을 보장하도록 세심하게 설계 및 제조되었습니다. VeTek Semiconductor는 고품질의 제품을 경쟁력 있는 가격으로 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며, 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

VeTek Semiconductor는 고품질과 합리적인 가격으로 중국의 고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 캐리어 전문 리더 제조업체입니다. 저희에게 연락을 환영합니다.

VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 공정 챔버 내 공간 효율성을 극대화하기 위해 다중 웨이퍼용으로 설계된 캐리어입니다. 이러한 고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 일반적으로 직사각형 또는 원통형이며, 각 캐리어에는 정밀 가공된 슬롯 또는 홈이 서로 분리되어 있어 단일 웨이퍼를 수직 위치에 단단히 고정합니다. 고순도 탄화 규소 웨이퍼 캐리어는 고온, 부식성 화학 물질 및 기계적 응력에 대한 내성이 뛰어나 잠재적인 손상으로부터 웨이퍼를 보호하는 데 이상적입니다. 이 제품은 처리 중 웨이퍼의 무결성과 안전성을 보장하기 위해 고순도 탄화규소(SiC)로 제조됩니다.

고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 확산, RTP 및 열장과 같은 복잡한 공정에서 중요한 역할을 하며, 서로 다른 장비와 단계 사이의 원활한 이송을 달성하기 위한 웨이퍼의 안정적인 캐리어 역할을 합니다. 수직 구조는 공정 챔버의 바닥 공간을 최소화하고 생산 처리량을 최적화하며 대량의 웨이퍼 배치를 효율적으로 처리할 수 있습니다. 고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 잠재적인 손상으로부터 웨이퍼를 보호하기 위한 뛰어난 고온 저항성, 부식성, 기계적 강도로 잘 알려져 있습니다.

VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 고순도 탄화규소(SiC)로 만들어졌으며 뛰어난 고온 저항성, 화학적 부식 저항성, 기계적 강도를 갖추고 있어 열악한 환경에서도 웨이퍼의 무결성을 보호합니다. 신중하게 설계된 구조와 정확하게 처리된 슬롯은 웨이퍼가 고정밀 처리 요구 사항을 충족하도록 단단히 위치되도록 보장합니다.

VeTek Semiconductor는 고객에게 고품질 제품과 안정적인 기술 지원을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 웨이퍼 성장, 확산, 박막 증착 또는 기타 중요한 공정에서 VeTek Semiconductor의 고순도 탄화규소 웨이퍼 캐리어는 제조 공정의 안정성과 일관성을 보장하는 데 중요한 역할을 할 수 있습니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

고순도 실리콘 카바이드 웨이퍼 캐리어의 제품 매개변수

재결정화된 탄화규소의 물리적 특성
재산	일반적인 값
작동 온도(°C)	1600°C(산소 포함), 1700°C(환원 환경)
SiC 함량	> 99.96%
무료 Si 콘텐츠	< 0.1%
부피 밀도	2.60-2.70g/cm3
겉보기 다공성	< 16%
압축강도	> 600MPa
냉간 굽힘 강도	80-90MPa(20°C)
뜨거운 굽힘 강도	90-100MPa(1400°C)
열팽창 @1500°C	4.70 10-6/°C
열전도도 @1200°C	23 W/m•K
탄성률	240GPa
열충격 저항	매우 좋은