CVD SiC 포커스 링

VeTek Semiconductor는 반도체 산업을 위한 고성능, 고신뢰성 제품 솔루션 제공에 전념하는 CVD SiC 포커스 링의 국내 선도적인 제조업체이자 공급업체입니다. VeTek Semiconductor의 CVD SiC 포커스 링은 고급 화학 기상 증착(CVD) 기술을 사용하고 우수한 내열성, 내식성 및 열 전도성을 가지며 반도체 리소그래피 공정에 널리 사용됩니다. 귀하의 문의는 언제나 환영입니다.

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제품 설명

현대 전자 기기와 정보 기술의 기초로서 반도체 기술은 오늘날 사회에서 없어서는 안 될 부분이 되었습니다. 스마트폰부터 컴퓨터, 통신 장비, 의료 장비, 태양전지에 이르기까지 거의 모든 현대 기술은 반도체 장치의 제조 및 응용에 의존합니다.

전자 장치의 기능 통합 및 성능에 대한 요구 사항이 지속적으로 증가함에 따라 반도체 공정 기술도 끊임없이 발전하고 개선되고 있습니다. 반도체 기술의 핵심 고리인 식각 공정은 소자의 구조와 특성을 직접적으로 결정합니다.

에칭 공정은 반도체 표면의 물질을 정확하게 제거하거나 조정하여 원하는 구조와 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. 이러한 구조는 반도체 장치의 성능과 기능을 결정합니다. 에칭 공정은 고밀도, 고성능 집적회로(IC) 제조의 기초가 되는 나노미터 수준의 정밀도를 달성할 수 있다.

CVD SiC Focus Ring은 Dry Etching의 핵심 부품으로, 웨이퍼 표면에 더 높은 밀도와 에너지를 갖도록 플라즈마를 집중시키는 데 주로 사용됩니다. 가스를 고르게 분포시키는 기능을 가지고 있습니다. VeTek Semiconductor는 CVD 공정을 통해 SiC를 한 층씩 성장시켜 최종적으로 CVD SiC Focus Ring을 획득합니다. 준비된 CVD SiC Focus Ring은 에칭 공정의 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC Focus Ring은 기계적 성질, 화학적 성질, 열전도도, 고온 저항성, 이온 에칭 저항성 등이 우수합니다.

● 고밀도로 식각량 감소

● 밴드갭이 높고 절연성이 우수함

● 높은 열전도율, 낮은 팽창계수, 내열충격성

● 높은 탄성과 우수한 기계적 충격저항성

● 높은 경도, 내마모성, 내식성

VeTek Semiconductor는 중국에서 최고의 CVD SiC Focus Ring 처리 능력을 보유하고 있습니다. 한편, VeTek Semiconductor의 성숙한 기술팀과 영업팀은 고객에게 가장 적합한 포커스 링 제품을 제공할 수 있도록 지원합니다. VeTek 반도체를 선택한다는 것은 한계를 뛰어넘는 데 전념하는 회사와 협력한다는 것을 의미합니다.CVD 실리콘 카바이드 혁신.

품질, 성능 및 고객 만족에 중점을 두고 당사는 반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족할 뿐만 아니라 이를 뛰어넘는 제품을 제공합니다. 고급 CVD 실리콘 카바이드 솔루션을 통해 귀하의 운영에서 더 큰 효율성, 신뢰성 및 성공을 달성할 수 있도록 도와드리겠습니다.

CVD SIC 필름의 SEM 데이터

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성

CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성
재산	일반적인 값
결정 구조	FCC β상 다결정, 주로 (111) 방향
SiC 코팅 밀도	3.21g/cm³
SiC 코팅 경도	비커스 경도 2500(500g 하중)
입자 크기	2~10μm
화학적 순도	99.99995%
열용량	640J·kg^-1·케이^-1
승화 온도	2700℃
굴곡강도	415MPa RT 4점
영률	430 Gpa 4pt 벤드, 1300℃
열전도율	300W·m^-1·케이^-1
열팽창(CTE)	4.5×10^-6K^-1