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G5용 GaN 에피택시 흑연 서셉터
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G5용 GaN 에피택시 흑연 서셉터

VeTek Semiconductor는 G5용 고품질 GaN 에피택셜 흑연 서셉터를 제공하는 데 전념하는 전문 제조업체 및 공급업체입니다. 국내외 수많은 유명 기업들과 장기적이고 안정적인 파트너십을 구축하여 고객의 신뢰와 존경을 받고 있습니다.

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제품 설명

VeTek Semiconductor는 G5 제조업체 및 공급업체를 위한 전문 중국 GaN 에피택셜 흑연 서셉터입니다. G5용 GaN 에피택셜 흑연 서셉터는 고품질 질화갈륨(GaN) 박막 성장을 위해 Aixtron G5 MOCVD(금속-유기 화학 기상 증착) 시스템에 사용되는 중요한 구성 요소이며, 균일한 온도를 보장하는 데 중요한 역할을 합니다. 분배, 효율적인 열 전달 및 성장 과정 중 오염 최소화.


G5용 VeTek Semiconductor GaN 에피택시 흑연 서셉터의 주요 특징:

- 고순도: 서셉터는 CVD 코팅된 고순도 흑연으로 만들어져 성장하는 GaN 필름의 오염을 최소화합니다.

-우수한 열 전도성: 흑연의 높은 열 전도성(150-300 W/(m·K))은 서셉터 전체에 균일한 온도 분포를 보장하여 일관된 GaN 필름 성장을 유도합니다.

-낮은 열팽창: 서셉터의 낮은 열팽창 계수는 고온 성장 과정에서 열 응력과 균열을 최소화합니다.

-화학적 불활성: 흑연은 화학적으로 불활성이며 GaN 전구체와 반응하지 않아 성장된 필름에서 원치 않는 불순물을 방지합니다.

-Aixtron G5와의 호환성: 서셉터는 Aixtron G5 MOCVD 시스템에 사용하도록 특별히 설계되어 적절한 적합성과 기능을 보장합니다.


신청:

고휘도 LED: GaN 기반 LED는 고효율과 긴 수명을 제공하므로 일반 조명, 자동차 조명 및 디스플레이 애플리케이션에 이상적입니다.

고전력 트랜지스터: GaN 트랜지스터는 전력 밀도, 효율 및 스위칭 속도 측면에서 탁월한 성능을 제공하므로 전력 전자 애플리케이션에 적합합니다.

레이저 다이오드: GaN 기반 레이저 다이오드는 고효율과 단파장을 제공하므로 광 저장 및 통신 애플리케이션에 이상적입니다.


G5용 GaN 에피택셜 흑연 서셉터의 제품 매개변수

등방성 흑연의 물리적 특성
재산 단위 일반적인 값
부피 밀도 g/cm3 1.83
경도 HSD 58
전기 저항력 mΩ.m 10
굴곡강도 MPa 47
압축강도 MPa 103
인장강도 MPa 31
영률 평점 11.8
열팽창(CTE) 10-6K-1 4.6
열 전도성 W·m-1·K-1 130
평균 입자 크기 μm 8-10
다공성 % 10
재 함량 ppm ≤10 (정제 후)

참고: 코팅하기 전에 첫 번째 정화를 수행하고 코팅 후 두 번째 정화를 수행합니다.


CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성
재산 일반적인 값
결정 구조 FCC β상 다결정, 주로 (111) 방향
밀도 3.21g/cm³
경도 비커스 경도 2500(500g 하중)
입자 크기 2~10μm
화학적 순도 99.99995%
열용량 640 J·kg-1·K-1
승화 온도 2700℃
굴곡강도 415MPa RT 4점
영률 430 Gpa 4pt 벤드, 1300℃
열 전도성 300W·m-1·K-1
열팽창(CTE) 4.5×10-6K-1


VeTek 반도체 생산공장


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