반도체 석영 탱크

고순도 반도체 등급 석영으로 제작된 반도체 석영 탱크는 황산(H2SO4), 과산화수소(H2O2) 및 표준 세척 용액(SC1)을 포함한 다양한 부식성 화학 물질에 대해 탁월한 내화학성을 제공합니다.

석영 탱크는 웨이퍼 제조 공정, 특히 웨이퍼 세척에서 중요한 역할을 합니다. 생산 과정에서 웨이퍼는 정확한 에칭이나 제한된 확산 영역을 허용하기 위해 종종 특정 재료로 마스킹됩니다. 웨이퍼가 다음 공정에 들어갈 수 있도록 각 단계 후에 이러한 재료를 완전히 제거해야 합니다. 석영 세척 탱크는 잔류물을 제거하는 데 매우 효율적이며 입자가 후속 공정을 오염시키는 것을 방지합니다.

반도체 석영 탱크의 가장 중요한 특징 중 하나는 내식성입니다.습식 가공. 석영 탱크는 세척 및 에칭 공정에 사용되는 부식성이 높은 화학 물질을 반응하지 않고 견딜 수 있도록 설계되어 공정 화학 물질의 효율성을 보장하고 웨이퍼 품질에 영향을 미치는 원치 않는 화학 반응을 방지합니다.

VeTek 반도체 석영 탱크는 웨이퍼 세척 중 입자 오염 위험을 줄이는 데 도움이 됩니다. 세심하게 설계된 가열 및 순환 모델은 정확한 온도 제어를 제공하고 세척 용액의 지속적인 순환을 유지하여 세척 효율성과 철저함을 보장합니다.또한 VeTek 석영 탱크의 높은 내열성은 최대 190°C의 작동 온도를 견딜 수 있어 열처리가 필요한 세척 또는 에칭 공정에 적합합니다. 고온 조건에서 구조적 안정성과 우수한 성능을 유지하는 것은 온도 제어가 엄격한 공정에 매우 중요합니다.

또한 석영 탱크는 열팽창이 낮고 열충격에 대한 저항성이 높아 온도 변동으로 인한 균열이나 변형 위험을 효과적으로 줄여 장기적인 안정성과 신뢰성을 보장합니다. 탁월한 열적 특성으로 인해 급격한 온도 변화에도 무결성을 유지할 수 있어 정밀한 요구 사항이 있는 습식 가공 공정에 적합합니다.

VeTek 석영 탱크의 높은 투명성 또한 주요 장점입니다. 투명한 석영 소재를 사용하면 작업자가 처리 중에 웨이퍼와 용액의 상태를 실시간으로 모니터링할 수 있어 공정 제어의 정확성이 향상됩니다. 세척 및 에칭 공정의 일관성을 보장하려면 시각적 모니터링이 특히 중요합니다.

VeTek은 정확한 셀 치수와 표면 마감을 보장하기 위해 다이아몬드 블레이드와 레이저 절단 기술을 포함한 고급 공정 기술을 사용하여 고품질 반도체 석영 탱크를 생산합니다. 당사의 고광택 석영 표면 디자인은 파티클 생성 및 오염 위험을 더욱 줄이고 숙련된 석영 용접공에 의해 고강도로 용접되며 고객 요구에 따라 맞춤화가 가능합니다.

석영 탱크의 내구성과 열충격 저항성을 향상시키기 위해 VeTek은 어닐링 공정을 사용하여 열 응력을 제거합니다. 이러한 처리를 통해 석영탱크의 전체적인 내구성과 열안정성이 향상됩니다.

VeTeksemi는 다양한 반도체 제조 공정의 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 맞춤형 크기와 석영 탱크 구성을 제공합니다. 우리는 고강도 용접 입구, 프로브 홀더 등을 포함하여 고객 요구 사항에 따라 석영 탱크를 맞춤화하여 각 제품이 고객 사양을 정확하게 충족하는지 확인할 수 있습니다.

VeTeksemi는 첨단 반도체 석영 제품 제조업체 및 공급업체로서 고품질의 다양한 Quartz Diffusion Boat,석영 웨이퍼 보트, 반도체 석영 벨자그리고 다른 제품. VeTek Semiconductor는 반도체 산업을 위한 고급 맞춤형 기술과 제품 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 우리는 진심으로 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 바랍니다.