제품

View as

CVD TaC 코팅 캐리어

VeTek Semiconductor의 CVD TaC 코팅 캐리어는 주로 반도체 제조의 에피택셜 공정용으로 설계되었습니다. CVD TaC 코팅 캐리어의 초고융점, 뛰어난 내식성, 뛰어난 열 안정성은 이 제품이 반도체 에피택셜 공정에 꼭 필요한 제품임을 결정합니다. 우리는 귀하와 장기적인 비즈니스 관계를 구축하기를 진심으로 희망합니다.

더 읽어보기 문의 보내기

Vetek Semiconductor의 CVD SiC 코팅 배플은 주로 Si Epitaxy에 사용됩니다. 일반적으로 실리콘 확장 배럴과 함께 사용됩니다. CVD SiC 코팅 배플의 고유한 고온 및 안정성을 결합하여 반도체 제조 시 공기 흐름의 균일한 분포를 크게 향상시킵니다. 우리는 우리 제품이 귀하에게 첨단 기술과 고품질 제품 솔루션을 제공할 수 있다고 믿습니다.

더 읽어보기 문의 보내기

CVD SiC 흑연 실린더

Vetek Semiconductor의 CVD SiC 흑연 실린더는 반도체 장비의 중추적인 역할을 하며 반응기 내에서 고온 및 압력 설정에서 내부 구성 요소를 보호하는 보호 차폐 역할을 합니다. 화학 물질과 극심한 열로부터 효과적으로 보호하여 장비 무결성을 보존합니다. 탁월한 내마모성 및 내부식성을 통해 까다로운 환경에서도 수명과 안정성을 보장합니다. 이러한 커버를 활용하면 반도체 장치 성능이 향상되고 수명이 연장되며 유지 관리 요구 사항 및 손상 위험이 완화됩니다. 문의해 주셔서 감사합니다.

더 읽어보기 문의 보내기

CVD SiC 코팅 노즐

Vetek Semiconductor의 CVD SiC 코팅 노즐은 반도체 제조 중 탄화규소 재료를 증착하기 위한 LPE SiC 에피택시 공정에 사용되는 중요한 구성 요소입니다. 이러한 노즐은 일반적으로 열악한 처리 환경에서도 안정성을 보장하기 위해 고온 및 화학적으로 안정적인 탄화규소 소재로 만들어집니다. 균일한 증착을 위해 설계된 이 제품은 반도체 응용 분야에서 성장한 에피택셜 층의 품질과 균일성을 제어하는 데 핵심적인 역할을 합니다. 귀하와의 장기적인 협력을 기대합니다.

더 읽어보기 문의 보내기

CVD SiC 코팅 보호기

Vetek Semiconductor는 LPE SiC 에피택시에 사용되는 CVD SiC 코팅 보호제를 제공합니다. "LPE"라는 용어는 일반적으로 저압 화학 기상 증착(LPCVD)의 저압 에피택시(LPE)를 의미합니다. 반도체 제조에서 LPE는 단결정 박막 성장을 위한 중요한 공정 기술로, 실리콘 에피택셜 층이나 기타 반도체 에피택셜 층을 성장시키는 데 종종 사용됩니다. 더 많은 질문이 있으면 주저하지 말고 저희에게 연락하십시오.

더 읽어보기 문의 보내기

SiC 코팅 받침대

Vetek Semiconductor는 흑연 및 탄화규소 소재에 CVD SiC 코팅, TaC 코팅을 전문적으로 제작하고 있습니다. 우리는 SiC 코팅 받침대, 웨이퍼 캐리어, 웨이퍼 척, 웨이퍼 캐리어 트레이, 유성 디스크 등과 같은 OEM 및 ODM 제품을 제공합니다. 1000등급 클린룸 및 정화 장치를 통해 불순물이 5ppm 미만인 제품을 제공할 수 있습니다. 듣기를 기대합니다. 곧 당신에게서.

더 읽어보기 문의 보내기

<...8 9 10 11 12...27 >