TaC 코팅 회전판

VeTek Semiconductor의 TaC 코팅 Rotation Plate는 고순도 조성, 불순물 함량 5ppm 미만, 조밀하고 균일한 구조를 갖고 있어 LPE EPI 시스템, Aixtron 시스템, Nuflare 시스템, TEL CVD 시스템, VEECO 시스템, TSI에 널리 사용됩니다. 시스템.

우수한 기계적 성질:

최대 2300HV의 코팅 경도와 내마모성이 우수합니다.

코팅과 기판 사이의 접착력이 강해 떨어지거나 벗겨지기 쉽지 않습니다.

코팅은 고온에서도 우수한 구조적 안정성을 유지할 수 있습니다.

우수한 내식성:

TaC 소재 자체는 화학적 안정성과 내식성이 우수합니다.

VeTek 반도체 코팅은 다양한 공격적인 가스 환경에서 우수한 성능을 발휘합니다.

장비의 내부 부품을 부식 손상으로부터 효과적으로 보호할 수 있습니다.

높은 표면 조도:

VeTek 반도체는 정밀한 코팅 공정을 사용하여 원하는 마감을 생산합니다.

낮은 표면 거칠기는 입자 축적 및 증착을 줄이는 데 도움이 됩니다.

코팅 일관성이 좋습니다.

VeTek Semiconductor는 배치 간 일관된 성능을 보장하기 위해 음질 제어 시스템을 갖추고 있습니다.

코팅 두께가 고르게 분포되어 있으며 뚜렷한 국부적 결함이 없습니다.

탁월한 실제 적용 성능:

VeTek 반도체의 TaC 코팅은 국내외 유명 에피텍셜 장비 제조업체에서 널리 사용되고 있습니다.

TaC 코팅 회전판의 제품 물리적 매개변수: