TaC 코팅판

VeTek Semiconductor의 TaC 코팅판은 뛰어난 기능과 장점을 제공하는 놀라운 제품입니다. 정밀하게 설계되고 완벽하게 설계된 당사의 TaC 코팅 플레이트는 실리콘 카바이드(SiC) 단결정 성장 공정의 다양한 응용 분야에 맞게 특별히 맞춤 제작되었습니다. TaC 코팅 플레이트의 정확한 치수와 견고한 구조로 인해 기존 시스템에 쉽게 통합되어 원활한 호환성이 보장됩니다. 그리고 효율적인 운영. 안정적인 성능과 고품질 코팅은 SiC 결정 성장 응용 분야에서 일관되고 균일한 결과에 기여합니다. 우리는 경쟁력 있는 가격으로 고품질 제품을 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며 중국에서 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

우리 공장에서 TaC 코팅판을 구입하시면 안심하실 수 있습니다. 우리의 TaC 코팅판은 반도체 에피택시 반응기의 핵심 부품으로 작동하여 우수한 에피택시층 수율과 성장 효율을 돕습니다. 제품 품질을 향상시킵니다.

금속-유기 화학 기상 증착(MOCVD)에 의한 제3주족 질화물 에피택시 시트(GaN) 제조, 화학 기상에 의한 SiC 에피택셜 성장막 제조 등 점점 더 가혹해지는 준비 환경에서 새로운 반도체 생산을 위해 증착(CVD)은 고온 환경에서 H2 및 NH3와 같은 가스에 의해 침식됩니다. 기존 성장 캐리어 또는 가스 채널 표면의 SiC 및 BN 보호 층은 화학 반응에 관여하여 손상될 수 있으며, 이는 결정 및 반도체와 같은 제품의 품질에 부정적인 영향을 미칩니다. 따라서 결정체, 반도체 및 기타 제품의 품질을 향상시키기 위해서는 보호층으로서 화학적 안정성과 내식성이 더 우수한 재료를 찾는 것이 필요합니다. 탄탈륨 카바이드는 강한 화학 결합의 역할로 인해 우수한 물리적, 화학적 특성을 가지며 고온 화학적 안정성과 내식성이 SiC, BN 등에 비해 훨씬 높으며 내식성, 열 안정성 뛰어난 코팅의 응용 가능성이 높습니다. .

VeTek Semiconductor는 첨단 생산 장비와 완벽한 품질 관리 시스템, TaC 코팅의 성능 일관성을 보장하기 위한 엄격한 공정 제어를 갖추고 있으며, 회사는 대량 생산 능력을 보유하고 있어 대량 공급 고객의 요구를 충족하며 완벽한 품질 모니터링을 제공합니다. 안정적이고 신뢰할 수 있는 각 제품의 품질을 보장하는 메커니즘입니다.

TaC 코팅판의 제품 매개변수:

TaC 코팅의 물리적 특성
밀도	14.3(g/cm3)
특정 방사율	0.3
열팽창계수	6.3 10-6/K
경도(홍콩)	2000홍콩
저항	1×10-5Ω*cm
열 안정성	<2500℃
흑연 크기 변화	-10~-20um
코팅 두께	≥20um 일반 값(35um±10um)