VeTek Semiconductor'TaC 코팅 유성 서셉터는 Aixtron 에피택시 장비를 위한 탁월한 제품입니다. 견고한 TaC 코팅은 뛰어난 고온 저항성과 화학적 불활성을 제공합니다. 이 독특한 조합은 까다로운 환경에서도 안정적인 성능과 긴 서비스 수명을 보장합니다. VeTek은 고품질 제품을 제공하고 경쟁력 있는 가격으로 중국 시장에서 장기적인 파트너 역할을 하기 위해 최선을 다하고 있습니다.
반도체 제조 분야에서 TaC 코팅 유성 서셉터는 중요한 역할을 합니다. 이는 Aixtron G5 시스템과 같은 장비의 탄화규소(SiC) 에피택셜 층 성장에 널리 사용됩니다. 또한 SiC 에피택시를 위한 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅 증착에서 외부 디스크로 사용되는 경우 TaC 코팅 유성 서셉터는 필수적인 지원과 안정성을 제공합니다. 탄탈륨 카바이드 층의 균일한 증착을 보장하여 탁월한 표면 형태와 원하는 필름 두께를 갖춘 고품질 에피택셜 층을 형성하는 데 기여합니다. TaC 코팅의 화학적 불활성은 원치 않는 반응과 오염을 방지하고 에피택셜 층의 무결성을 유지하며 우수한 품질을 보장합니다.
TaC 코팅의 탁월한 열 전도성은 효율적인 열 전달을 가능하게 하여 균일한 온도 분포를 촉진하고 에피택시 성장 공정 중 열 응력을 최소화합니다. 이를 통해 향상된 결정학적 특성과 향상된 전기 전도도를 갖춘 고품질 SiC 에피택셜 층을 생산할 수 있습니다.
TaC 코팅 유성 디스크의 정확한 치수와 견고한 구조 덕분에 기존 시스템에 쉽게 통합할 수 있어 원활한 호환성과 효율적인 작동이 보장됩니다. 안정적인 성능과 고품질 TaC 코팅은 SiC 에피택시 공정에서 일관되고 균일한 결과를 제공합니다.
SiC 에피택시의 탁월한 성능과 신뢰성을 위해 VeTek Semiconductor와 TaC 코팅 유성 디스크를 신뢰하십시오. 반도체 산업의 기술 발전을 선도하는 당사의 혁신적인 솔루션의 이점을 경험해 보십시오.
TaC 코팅의 물리적 특성 | |
밀도 | 14.3(g/cm3) |
특정 방사율 | 0.3 |
열팽창계수 | 6.3 10-6/K |
경도(홍콩) | 2000홍콩 |
저항 | 1×10-5Ω*cm |
열 안정성 | <2500℃ |
흑연 크기 변화 | -10~-20um |
코팅 두께 | ≥20um 일반 값(35um±10um) |