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다공성 흑연
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다공성 흑연

VeTek Semiconductor는 중국의 Porous Graphite, CVD SiC 코팅 및 CVD TAC COATING 흑연 서셉터 전문 제조업체입니다. 실제로 Porous Graphite는 반도체 제조 공정의 핵심 소모품으로서 결정 성장, 도핑, 어닐링 등 다중 링크에서 대체할 수 없는 역할을 담당하고 있습니다. VeTek Semiconductor는 고품질 제품을 경쟁력 있는 가격으로 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며, 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

중국의 탄화규소 코팅 흑연 트레이 시장에서 VeTek Semiconductor 다공성 흑연 부품은 반도체 제조 공정의 핵심 소모품이며, 그 성능은 반도체 장치의 품질과 신뢰성에 직접적인 영향을 미칩니다. 반도체 제조공정에 있어서 없어서는 안되는 제품입니다. 추가 상담에 오신 것을 환영합니다.


VeTek 반도체 다공성 흑연 부품다음과 같이 반도체 공정에서 대체할 수 없는 역할을 합니다.


●  고온 용해 용기: Porous Graphite는 녹는점이 높아 반도체 소재의 고온 용융과정을 견딜 수 있으며, 다공성 구조는 기포 발생을 효과적으로 억제하여 용융물의 고순도를 보장합니다.


●  대기 보호 캐리어: 다공성 흑연은 상대적으로 안정적인 불활성 분위기를 제공하고 용융물과 외부 환경 사이의 접촉을 줄이고 산화 및 오염을 방지할 수 있습니다.


●  열 전달 매체: 다공성 흑연의 우수한 열전도율로 용융온도의 균일한 분포를 보장하여 결정의 균일한 성장에 도움을 줍니다.


●  지원 및 수정: 흑연도가니는 용융물을 안정적으로 지지하여 변형을 방지합니다.


●  가스 확산 채널: 다공성 흑연의 구조는 용융물에서 생성된 가스에 대한 확산 채널을 제공하여 가스 압력을 낮추고 결정 결함을 방지하는 데 도움이 됩니다.


더 중요한 것은 VeTek Semiconductor가 중국의 sic 코팅 흑연 서셉터 시장과 tac 코팅 흑연 도가니 시장에서 절대적인 시장 선도적 위치를 차지하고 있다는 것입니다.전문 제조 업체로서다공성흑연 도가니, 다공성 흑연그리고TaC 코팅판 i중국에서 VeTek Semiconductor는 항상 맞춤형 제품 서비스 제공을 고집하며 업계 최고의 기술과 제품 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 여러분의 상담을 진심으로 기다리겠습니다.


다공성 흑연물리적 특성:

다공성 흑연의 일반적인 물리적 특성
lt
매개변수
부피 밀도
0.89g/cm22
압축강도
8.27MPa
굽힘강도
8.27MPa
인장강도
1.72MPa
비저항
130Ω-inX10-5
흑연 다공성
50%
평균 기공 크기
70um
열전도율
12W/M*K

VeTek Semiconductor 다공성 흑연 제품 매장:

VeTek Semiconductor Porous Graphite production shops


반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요

the semiconductor chip epitaxy industry chain

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