고급 다공성 흑연

고급 다공성 흑연(Advanced Porous Graphite)은 이름에서 알 수 있듯이 구조에 서로 연결된 공극 또는 기공을 포함하는 흑연 유형입니다. 이러한 기공의 크기는 크게 다를 수 있으며 이는 재료의 성능 특성에 영향을 미칩니다.

고급 다공성 흑연의 특성:

넓은 표면적과 강력한 흡착력: 다공성 흑연의 가장 뛰어난 장점 중 하나는 비다공성 흑연에 비해 표면적이 훨씬 넓어 흡착력이 매우 높다는 점입니다.

우수한 열 및 전기 전도성: 다공성 흑연은 열, 전기 전도성이 우수합니다. 이 특성은 열 방출이나 전기 전도성이 필요한 응용 분야에서 특히 중요합니다.

우수한 기계적 강도: 다공성 흑연의 기계적 강도는 기공 구조 및 제조 공정과 관련이 있습니다. 다공성 흑연의 기계적 강도는 비다공성 흑연만큼 좋지는 않지만 기계적 특성은 여전히 ​​우수합니다.

화학적 불활성: 흑연 제품으로서 다공성 흑연은 화학적으로 불활성이며 부식성 환경에서 작동할 수 있습니다. 화학적 불활성은 산, 염기 및 용매에 대한 저항성을 요구하는 화학 공정에 다공성 흑연을 사용하는 데 도움이 됩니다.

제조 가능성 및 높은 사용자 정의 가능성: 다공성 흑연의 기공 구조는 다양한 방식으로 맞춤화가 가능합니다. 고객이 원하는 기공 크기와 분포를 달성하기 위해 화학 기상 증착과 같은 기술을 사용할 수 있습니다.

고급 다공성 흑연의 응용:

SiC 결정 성장: 연구 결과에 따르면 SiC의 결정 성장에 다공성 흑연을 적용하면 미세소관 및 기타 결함의 수를 줄이고 결정 내 불순물 원소의 함량을 줄이는 데 도움이 되므로 다공성 흑연이 생산에 큰 도움을 줄 수 있는 것으로 나타났습니다. SIC 크리스탈.

웨이퍼 제조: 다공성 흑연은 열전도율과 내식성이 우수하여 흑연 보트, 흑연 척 등의 웨이퍼 캐리어 제조에 사용됩니다. 다공성 흑연은 고온 환경에서 안정적으로 작동할 수 있어 웨이퍼가 균일한 온도 분포를 유지하도록 도와 가공 정확도를 보장합니다.

화학기상증착(CVD) : 다공성 흑연은 고온에 강하고 화학적으로 불활성이기 때문에 고품질의 성막을 촉진하기 위해 CVD 공정의 일부로 반응기 라이너 및 전극 재료로 자주 사용됩니다.

반도체 장치의 방열: 다공성 흑연의 우수한 열전도율은 반도체 장치의 방열 솔루션에 이상적인 선택입니다. 방열판이나 열 인터페이스 재료로 만들어 빠른 열 방출을 돕고 장치의 작업 효율성과 수명을 향상시킬 수 있습니다.

에칭 및 에칭 공정: 반도체 제조의 건식 식각 공정에서 다공성 흑연을 전극재 또는 음극재로 사용할 수 있으며, 내식성과 전기 전도성이 부식성 플라즈마의 침식을 견디는 데 도움을 주어 식각 공정의 안정성과 정밀도를 보장합니다.

고순도 애플리케이션: 다공성 흑연을 정제하여 반도체 산업의 엄격한 재료 순도 요구 사항을 충족하고 불순물의 영향을 줄입니다.

VeTek Semiconductor는 중국의 고급 다공성 흑연 전문 제조업체 및 공급업체로서 다음과 같은 다양한 고품질 흑연 제품도 제공합니다.TaC 코팅 다공성 흑연, 등방성 흑연, 실리콘화 흑연, 고순도 흑연 시트, SiC 결정 성장 다공성 흑연등 맞춤형 기술과 제품 솔루션을 지원합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 진심으로 기대하며 언제든지 상담을 환영합니다.