CVD TAC 코팅

CVD TaC 코팅(Chemical Vapor Deposition Tantalum Carbide Coating)은 탄탈륨 카바이드(TaC)를 주성분으로 하는 코팅 제품입니다. TaC 코팅은 매우 높은 경도, 내마모성 및 고온 저항성을 갖추고 있어 주요 장비 구성 요소를 보호하고 공정 신뢰성을 향상시키는 데 이상적인 선택입니다. 반도체 공정에 없어서는 안 될 소재입니다.

CVD TaC Coating 제품은 주로 Reaction Chamber, Wafer Carrier, Etching 장비에 사용되며, 그 안에서 다음과 같은 핵심 역할을 담당합니다.

CVD TaC 코팅은 기판, 벽면 패널, 발열체 등 반응 챔버의 내부 구성 요소에 자주 사용됩니다. 우수한 내열성과 결합하여 고온, 부식성 가스 및 플라즈마의 침식을 효과적으로 방지할 수 있어 장비의 수명을 효과적으로 연장하고 공정의 안정성과 제품 생산의 순도를 보장합니다.

또한, TaC 코팅 웨이퍼 캐리어(예: 석영 보트, 고정 장치 등)는 내열성 및 화학적 부식 저항성이 뛰어납니다. 웨이퍼 캐리어는 고온에서 웨이퍼를 안정적으로 지지하고, 웨이퍼 오염과 변형을 방지하여 전반적인 칩 수율을 향상시킬 수 있습니다.

또한 VeTek Semiconductor의 TaC 코팅은 플라즈마 식각기, 화학 기상 증착 시스템 등과 같은 다양한 식각 및 박막 증착 장비에도 널리 사용됩니다. 이러한 처리 시스템에서 CVD TAC 코팅은 고에너지 이온 충격과 강한 화학 반응을 견딜 수 있습니다. , 이를 통해 프로세스의 정확성과 반복성을 보장합니다.

귀하의 특정 요구 사항이 무엇이든, 당사는 귀하의 CVD TAC 코팅 요구 사항에 가장 적합한 솔루션을 찾아드릴 것이며 언제든지 귀하의 상담을 기다리겠습니다.

CVD TAC 코팅의 기본 물리적 특성:

VeTek Semiconductor CVD TAC 코팅 제품 매장:

반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요: