CVD TaC 코팅 캐리어

VeTek Semiconductor는 중국 CVD TaC 코팅 캐리어, EPITAXY SUSCEPTOR, TaC 코팅 흑연 서셉터 전문 제조업체입니다.

지속적인 공정 및 재료 혁신 연구를 통해 Vetek Semiconductor의 CVD TaC 코팅 캐리어는 주로 다음 측면을 포함하여 에피택셜 공정에서 매우 중요한 역할을 합니다.

기판 보호: CVD TaC 코팅 담체는 우수한 화학적 안정성과 열적 안정성을 제공하여 고온 및 부식성 가스의 기판 및 반응기 내벽 침식을 효과적으로 방지하여 공정 환경의 순도와 안정성을 보장합니다.

열 균일성: CVD TaC 코팅 캐리어의 높은 열전도율과 결합하여 반응기 내부 온도 분포의 균일성을 보장하고 에피택시층의 결정 품질 및 두께 균일성을 최적화하며 최종 제품의 성능 일관성을 향상시킵니다.

입자 오염 제어: CVD TaC 코팅 캐리어는 파티클 발생률이 매우 낮기 때문에 표면이 매끄러워 파티클 오염 위험이 크게 줄어들어 에피택셜 성장 시 순도와 수율이 향상됩니다.

장비 수명 연장: CVD TaC 코팅 캐리어의 우수한 내마모성과 내식성이 결합되어 반응 챔버 부품의 수명을 대폭 연장하고 장비 가동 중단 시간 및 유지 관리 비용을 줄이며 생산 효율성을 향상시킵니다.

위의 특성을 결합한 VeTek Semiconductor의 CVD TaC 코팅 캐리어는 에피택셜 성장 공정에서 공정의 신뢰성과 제품의 품질을 향상시킬 뿐만 아니라, 반도체 제조를 위한 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.

CVD TaC 코팅 캐리어의 물리적 특성:

CVD SiC 코팅 생산공장:

반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요: